REUNIÓN PARA REGISTRO DEL CENTRO DE LENGUAS EXTRANJERAS EN EL TECNOLÓGICO DE PARRAL

TecNM Campus Parral, 05 de diciembre de 2023.

Con el propósito de avanzar en la certificación del nivel de inglés de los estudiantes y elevar la calidad académica en este ámbito, el Tecnológico de Parral llevó a cabo una importante reunión con el Coordinador Regional de inglés, el Maestro Mariano Alfaro.

En el encuentro, se abordó específicamente el proceso para obtener el registro del Centro de Lenguas Extranjeras (CLE). La Coordinación de Lenguas Extranjeras del Tecnológico de Parral se encuentra inmersa en este proceso, cuyo resultado permitirá a la institución certificar el nivel de inglés requerido para la titulación de sus estudiantes.

Durante la reunión, se revisaron detalladamente los requisitos necesarios para lograr este objetivo crucial. Estas acciones son consideradas determinantes para elevar la calidad del nivel de inglés entre los estudiantes de nuestra institución, respondiendo a las demandas actuales del entorno laboral y académico.

Se espera que, como resultado de este encuentro, la Coordinación del CLE indique las adecuaciones necesarias y la institución subsane las observaciones planteadas, con el objetivo de obtener el registro correspondiente. La meta es que, para el año 2024, el Instituto Tecnológico de Parral cuente con la capacidad de certificar el nivel de idioma inglés de sus estudiantes.

La Licenciada María de Lourdes Villanueva Chávez, directora del Tecnológico de Parral, expresó un interés marcado en que el TecNM Campus Parral cuente con el registro del CLE. Subrayó la importancia de este logro para que los estudiantes del Tecnológico puedan certificar su nivel de idioma inglés, proporcionándoles ventajas significativas en su formación y proyección profesional.

Esta iniciativa refleja el compromiso continuo del Tecnológico de Parral con la excelencia académica y el desarrollo integral de sus estudiantes, posicionándose como una institución a la vanguardia en la enseñanza de idiomas en la región.

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